＜装置の概要＞

　本装置は、TEOS-SiO2膜のCVD装置です。
　・試料は3インチウエハなら5枚、4インチウエハなら3枚、
　　8インチウエハなら1枚が対応可能
　・最大100ステッププロセスが可能